NI PXI矢量网络分析仪助半导体设备技术

　　美国国家仪器公司(National Instruments, 简称 NI)近日发布了NI NI PXIe-5632 VNA，它经进一步优化，可帮助工程师满足日益复杂的射频测试要求，而其成本、尺寸和使用所需时间仅是传统堆叠式解决方案的极小一部分。 新的PXIe VNA基于创新型的双源架构，频率范围为300 kHz至8.5 GHz，拥有独立调整的源代码和源接入循环，可适用于众多不同的测量应用。　　

　　“NI在射频和微波仪器上持续大力投入，将PXI的应用领域扩大至高端应用。”NI射频研究和开发副总裁Jin Bains表示， “NI PXIe-5632矢量网络分析仪功能丰富，可显着降低网络测量成本，尤其是针对那些需要高度精确、快速和小封装测量的大批量自动化测试的应用。”

　　产品特征

• 双端口，3槽PXI Express矢量网络分析仪，频率范围为300 kHz至8.5 GHz 。
• 功率范围较宽，为-30dBm到+15 dBm，调节步长为0.01dB，用于测量有源设备的压缩和S-参数。
• 带有源接入循环的双源架构，可实现脉冲S参数测量和扩展源功率范围。
• 频偏功能使用独立调整的源代码，实现对频率转换器件和热S-参数的测量。
• 通过NI LabVIEW、ANSI C和.NET等行业领先的编程接口，可简化编程并加快测试开发速度，同时保证射频测量质量。