三星将加入SEMATECH 参与新一代液浸技术开发

    韩国三星电子将加入美国的半导体研究开发联盟——International SEMATECH。三星计划派遣数名技术人员，参加该联盟45nm（hp65）以上曝光技术——液浸ArF曝光和EUV（Extreme Ultra Violet）曝光技术的开发项目，以及栅极绝缘膜高介电率（high-k）材料和层间绝缘膜低介电率（low-k）材料等新型材料的开发项目。

　　三星2005年4月加入了SEMATECH旗下的International SEMATECH Manufacturing Initiative(ISMI)，但参与SEMATECH本部的开发项目尚属首次。ISMI是2004年作为SEMATECH的分支机构结成的联盟，为提高半导体工厂的生产能力、降低每枚晶圆的生产成本等致力于相关开发。SEMATECH和ISMI目前的成员有美国英特尔、德国英飞凌科技、台湾台积电（T松下）和MEC电器产业等。

　　除SEMATECH外，三星还加入了由日本半导体尖端技术公司（Selete）、比利时ISMC和美国IBM等主导的“Albany NanoTech”等研发联盟。

（源自：BP日经）