Mapper提供无掩模板光刻设备 助台积电研发22nm先进制程

    据EE Times网站报道，台积电日前与荷兰设备商Mapper Lithography BV共同宣布签署协议，依据此协议，Mapper将会出货第一台12寸多电子束无掩模板光刻设备给台积电，作为制程开发及器件试制之用。此设备的多电子束技术，将帮助台积电进一步探索22nm及更先进制造工艺。

 
    据报道，台积电是Mapper投资者之一，曾就使用Mapper技术探讨多年。

 
    Mapper的电子束无掩模板光刻设备利用10000多束平行电子束直接打到晶圆上形成图样，减少了因为掩模板的使用而增加的成本。

    台积电研究发展副总经理孙元成表示，为了能让22nm及更先进制造技术在符合成本效益下完成，台积电将就Mapper的解决方案进行测试，看能否达成此目标。

    ZFA点评：

    台积电要巩固自己在代工业龙头老大的地位，就必须生产更先进的产品，而先进的产品必须要有最先进的生产设备，但这要冒一定的风险，只要能够成功，自然就同其它对手的竞争中占据上风。

                                                                  中发网记者子鸿摘自网络