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工业领域需求增长 TI DLP先进光控创新技术研讨会在京召开

元器件交易网讯 12月16日,德州仪器(TI)在北京举办了TI DLP®产品先进光控创新技术研讨会。TI DLP产品中国区业务拓展经理郑海兵先生,就2015年TI面向市场发布的DLP 2010NIR芯片、DLP近红外超便携评估模块、DLP7000UV、DLP9500UV芯片组、DLP9000X等产品与现场嘉宾进行了技术交流,郑海兵指出,TI DLP在数字影院、投影显示领域取得的成就有目共睹,在此基础之上,TI期待借助DLP产品本身的技术优势与客户一起进行产品创新,用以满足光谱分析、3D打印在工业和民用领域日益增长的巨大需求。

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德州仪器(TI)DLP产品事业部业务拓展经理郑海兵先生演讲

据郑海兵介绍,由DLP2010NIR近红外微镜器件、DLPA2005集成功率管理和DLPC150控制器组成的业内首款完全可编程微机电系统(MEMS)芯片组,支持700-2500nm波长范围的超便携光谱分析,具有低功耗、可编程高速模式和最新的5.4μm像素等特点,可实现紧凑型光学设计。

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TI DLP NIRscan™ 超便携评估模块(EVM)

郑海兵指出,TI发布的DLP7000UV和DLP9500UV数字微镜器件(DMD)均可实现很高的分辨率、快速的模式切换速度,并专为在363-420nm的波长中曝光进行了优化。

作为速度最快的可用UV DLP芯片,DLP7000UV芯片组适合中型平台使用并且在价位上极具竞争力;而DLP9500UV芯片组则具有更高的分辨率,同时配备像素载入速度最高达到48Gps,利于缩短生产周期时间。

面向3D打印、直接成像平板印刷术等工业应用的DLP9000X也有着自身的优势:

借助每秒超过60Gb的数据速率支持,DLP9000X可提供相较TI DLP®产品库中其它芯片组5倍以上的总曝光速度,并且它还提供针对实时、连续、高位深图形的出色数据加载速度,从而带来细节图像

DLP9000X与DLP9500芯片组相比,DLP9000X在2560*1600数字微镜阵列中配备有超过百万个微镜,从而将打印光头的数量减少50%,并支持1微米以下的打印特征尺寸。

由于优化了对400纳米至700纳米间波长范围的支持,DLP9000X能够支持多种光敏树脂和材料。

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德州仪器(TI)DLP产品事业部业务拓展经理郑海兵先生演讲

此外,郑海兵介绍,光谱分析技术作为一种快速且功能强大的非接触式技术,近年来已走出实验室,被逐渐应用于药品、食品、石油化工、制造及医疗等诸多行业产品的分析测定。在光谱分析中,DLP技术中核心的DMD可帮助实现高性能的液体和固体分析。在分析过程中,DLP微镜阵列作为一个可编程波长选择滤波器,不仅较现有的光谱分析解决方案可提供更高的波长分辨率、更大的探测面积和更高的光捕获效率,还可实现更好的信噪比(SNR)指标,可被用于设计高性能、可靠、灵活和经济的光谱分析解决方案。

郑海兵表示,TI希望凭借DLP产品本身的技术优势,通过评估模块和广泛的生态系统,帮助客户加快产品的上市。

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责任编辑:常慧思